iPhone 18 Pro/20周年iPhone渲染圖出爐：挖孔漸漸消失

來源：企業(yè)錄(www.ssc849.cn)-公司信息發(fā)布,網(wǎng)上買賣交易門戶編輯：探索時間：2025-12-29 18:12:31

11月15日消息，渲消失根據(jù)博主爆料的染圖消息，明年的出爐iPhone 18 Pro系列將首次縮小靈動島面積，2027年亮相的挖孔20周年iPhone將會把Face ID和前攝全部置于屏幕下方，實現(xiàn)真面屏形態(tài)。漸漸

有博主基于爆料信息繪制了iPhone 18 Pro和20周年iPhone的渲消失渲染圖，在這兩代iPhone上，染圖正面的出爐挖孔區(qū)域漸漸消失。

目前安卓陣營已經(jīng)推出了屏下前攝機型，挖孔代表品牌是漸漸努比亞，最新的渲消失紅魔11 Pro系列以及努比亞Z80 Ultra都是真全面屏旗艦。以努比亞Z80 Ultra為例，染圖該機采用納米級高透材料、出爐獨立像素驅動技術，挖孔顯著提升屏下攝像透光率，漸漸最終實現(xiàn)屏下鏡頭全場景完美隱藏效果。

相比努比亞，蘋果要想要實現(xiàn)真全面屏設計，不僅要做屏下前攝，還要將Face ID組件置于屏幕下方，既不影響顯示效果又兼顧生物識別。

在此之前，有關蘋果屏下Face ID的多項專利被曝光，蘋果的新專利通過創(chuàng)新設計，移除部分子像素，使紅外光能夠更順暢地穿過屏幕蓋板，從而實現(xiàn)高效的屏下人臉識別。

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