您的當(dāng)前位置:首頁(yè) > 探索 > 日本芯片工藝要從28nm躍升到4nm 臺(tái)積電關(guān)鍵時(shí)刻出手 正文
時(shí)間:2025-12-30 15:03:55 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò)整理 編輯:探索
12月11日消息,日本在40年前一度是全球半導(dǎo)體一哥,然而近年來(lái)淪為設(shè)備及材料供應(yīng)商,先進(jìn)工藝上已經(jīng)缺席多年,此前國(guó)內(nèi)自產(chǎn)的工藝還停留在28nm以上。然而現(xiàn)在日本有可能從28nm一躍升級(jí)到4nm工藝,
12月11日消息,日本日本在40年前一度是芯片全球半導(dǎo)體一哥,然而近年來(lái)淪為設(shè)備及材料供應(yīng)商,工藝先進(jìn)工藝上已經(jīng)缺席多年,升到手此前國(guó)內(nèi)自產(chǎn)的臺(tái)積工藝還停留在28nm以上。
然而現(xiàn)在日本有可能從28nm一躍升級(jí)到4nm工藝,電關(guān)因?yàn)榕_(tái)積電在日本投資的刻出熊本二廠原計(jì)劃是升級(jí)6/7nm工藝,但是日本最近已經(jīng)停工了。
這次停工不是芯片臺(tái)積電對(duì)日本的投資暫停,而是工藝要升級(jí)工藝,因?yàn)?/7nm工藝當(dāng)前的升到手需求較低,再建新廠只會(huì)加劇過(guò)剩,臺(tái)積因此消息人士稱臺(tái)積電計(jì)劃將二期工廠直接升級(jí)到4nm工藝,電關(guān)以滿足當(dāng)前AI芯片的刻出巨大需求。
臺(tái)積電公司今天也回應(yīng)了這一消息,日本表示公司不評(píng)論市場(chǎng)傳聞或者臆測(cè),在日本的專案持續(xù)進(jìn)行中。
雖然臺(tái)積電表態(tài)在日本的投資會(huì)持續(xù),實(shí)際上不僅二期工廠暫停,此前已經(jīng)建成的一期工廠也暫停擴(kuò)產(chǎn)了,該工廠主要生產(chǎn)40/28nm以及16/12nm工藝的芯片產(chǎn)品,原計(jì)劃2026年會(huì)增加新設(shè)備,但是現(xiàn)在臺(tái)積電已經(jīng)對(duì)設(shè)備供應(yīng)商表示明年一年都沒有增加設(shè)備的計(jì)劃。
不過(guò)二期工廠如果真要升級(jí)4nm工藝也不是那么簡(jiǎn)單的,因?yàn)?nm需要EUV光刻設(shè)備了,不僅投資會(huì)增加,廠商設(shè)計(jì)之類的也要改變。
因此二期工廠還有一種可能是改建成先進(jìn)封裝工廠,現(xiàn)在的AI芯片對(duì)CoWoS封裝的需求也很高,而此前CoWoS芯片封裝主要在臺(tái)積電本土工廠,在日本擴(kuò)產(chǎn)CoWoS也有助于緩解AI產(chǎn)能不足的問(wèn)題。
只不過(guò)這一切還沒定論,但是臺(tái)積電不論最終采用哪個(gè)方案,日本在先進(jìn)工藝及封裝上都會(huì)向前邁進(jìn)一大步。
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